日本最先进的光刻机多少纳米

日本最先进的光刻机有多少纳米？本文为原创。请不要抄袭或重新分发它。违反者将被起诉。条条大路通罗马，芯片制造的道路似乎不止一条。传统工艺中，采用光刻机对晶圆进行曝光来实现芯片制造。不过，日本光刻机制造商佳能已经推出了纳米压印设备，据佳能称，此类技术甚至可以生产2纳米芯片。它是世界上唯一掌握这项业务的人。什么是ASM。

日本印刷公司和存储芯片制造商Kioxia Holdings 合作开发纳米压印技术。与通过反射光工作的极紫外光刻（EUV）技术不同，纳米压印技术将电路图案直接压印到晶圆上，并且由于不使用透镜，因此可以比现有曝光工艺以更低的成本实现精细细节。芯片的化学生产。不过，纳米压印仍然可以与最先进的生产工艺对接。

日本佳能公司历时10年研发的可用于半导体制造的新技术产品——已正式上市销售。日本制造企业一度垄断了光刻机市场，但那已经结束了。 “纳米压印”方法可以生产线宽为5纳米的产品，甚至可以挑战最先进的2纳米产品。 20到30年前，光刻设备市场几乎被佳能和尼康垄断。但说得够多了。

据日本媒体报道，佳能推出了自主研发的用于半导体电路光刻工艺的“纳米压印”技术设备。该设备可以显着降低成本和功耗。备受半导体厂商期待，目前已具备量产能力。对于2nm产品。据佳能半导体机器业务总监岩本一典介绍，纳米压印是将半导体电路图的掩模压印到小毛猫上。